產品特點:
專業全功能過塑機.可做熱塑.冷裱工作使用;
數碼管顯示.特別適合執照證件塑封各種;
恒溫待機,電子風冷,過熱自動保護;
緊急進退等多種安全設計;
工作膠輥采用硅膠制造,加熱均勻,恒溫穩定,可10/J、時連續工作;
采用兩套加熱系統;
過塑文件無卷曲或氣泡現象;
工作速度.溫度均可自由調節。
對于各種介質均可做到塑封。
產品參數:
● 最大工作寬度:450mm;
● 最大工作厚度:2mm;
● 工作膠輥數量:4支;
● 工作速度:150-1600mm/min(10檔調節);
● 工作溫度:0-180℃(自由設定);
更多詳細請查看:www.zknt.com QQ:800035439
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美國GRACO進口膠泵打膠機供膠系統15989860007
SS60標準型單軸機械手
特點:■本體寬60mm■高剛性合金底座■重復定位精度±0.02■扭力平穩■可配伺服電機、步進電機■性價比好
■基本規格
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注:1、安裝方式有三種:a、采用底部安裝槽配M4螺母;b、用壓板壓住側壓槽;c、底部孔安裝(由內往外鎖M4螺釘)2、因行程繁多,此表只統計了常用行程的機械手,如您需要的機械手行程未在本表所列,請與我公司聯系。3、行程400mm以下為6個安裝孔,行程400mm以上(含400mm)為10個安裝孔。4、本體重量為不含電機重量。5、表中電機罩尺寸是指當電機不帶剎車時電機罩的外形尺寸。
注:1、安裝方式有三種:a、采用底部安裝槽配M4螺母;b、用壓板壓住側壓槽;c、底部孔安裝(由內往外鎖M4螺釘)2、因行程繁多,此表只統計了常用行程的機械手,如您需要的機械手行程未在本表所列,請與我公司聯系。3、行程400mm以下為6個安裝孔,行程400mm以上(含400mm)為10個安裝孔。4、本體重量為不含電機重量。
MYCRO美國原裝進口的旋涂儀,自1985年開始,我們便為提供化工半導體材料清潔涂敷處理等特殊工藝。公司擁有WS系列各類旋轉涂敷系統,目前客戶已遍布全球。勻膠機有很多種稱謂,英文叫Spin Coater或者Spin Processor,又稱甩膠機、勻膠臺、旋轉涂膠機、旋轉涂膜機、旋轉涂層機/旋轉涂層儀、旋轉涂布機、旋轉薄膜機、旋轉涂覆儀、旋轉涂膜儀、勻膜機 旋涂儀、進口勻膠機、臺式勻膠機、實驗室勻膠機、勻膠機價格、勻膠機品牌、晶圓勻膠機
特色:◆ 科研制備理想的旋涂儀; ◆ 天然聚丙烯或特氟龍材質構造;◆ 216毫米,318毫米和370毫米三種腔體大小;◆ 可選擇臺面式,和用于濕站或者手套箱系統的不同構造;◆ 最大轉速可達12000RPM;◆ 易編程的數碼控制器(WS650型控制器);◆ 可升級成為自動滴膠型;請根據您實際需要的大小和材質選擇相應的旋涂儀型號: WS-650-23NWS-650-8NWS-650-15N可選配件:自動滴膠系統UD3、EBR晶圓去邊系統UD-3B、TFL特氟龍內襯、針對不同基片材質可定制托盤、單點滴注系統(適用于大劑量滴膠)旋轉涂層機/旋涂儀超準的速度控制:我們的臺式旋轉涂層機/旋涂儀機數碼速度控制器采用的是一個高計數位的光學編碼器輸入至伺服馬達控制器,其設置點精度小于0.006%(遵照美國NIST激光測量標準),無需校準;旋轉涂層機/旋涂儀內包含20個51步程序段或者手動模式,非常方便設定速度和加速度程序段, 1~10000RPM的穩定轉速可以隨意設定!旋涂儀價格 旋涂儀工作原理 什么旋涂儀好 西安laurell勻膠機 成都旋涂儀 旋涂儀那家的好 旋涂儀操作流程需要更詳細的產品資料咨詢,請與邁可諾技術有限公司中國營銷服務中心區域辦公室聯系!
勻膠機(英文名:Spin Coater)適合半導體硅片的勻膠鍍膜 詳細介紹: 勻膠機(英文名:Spin Coater) 行業俗稱:勻膠臺,甩膠機,涂膠機,鍍膜機,涂層機 品牌 LAURELL型號 WS-650-23N WS-650-8N WS-650-15N產品概述: WS650型勻膠機適應于半導體硅片,載玻片,晶片,基片,ITO導電玻璃等工藝,制版的表面涂覆. 勻膠機穩定的轉速和快速的啟動,可以保證半導體中膠厚度的一致性和均勻性,這正是WS650型均勻膠機的特點. 該機在這方面采取了許多措施: (一)該設備采用美國先進技術. (二)轉速在12000轉/分范圍內非常穩定. (三)本勻膠機采用PLC控制,速度無極調節.在啟動之后,一般工藝先以低速運轉,使膠攤開,然后自動變到高速運轉.步驟轉速及相應的時間分別可調. (四)本勻膠機采用直流驅動馬達,超過10年的使用歷史(五)"吸片"采用電磁閥控制氣路,這樣適合流水線的工藝,一個氣泵可同時帶幾個勻膠機工作,提高了效率. (六)智能型調節勻膠時間,倒計時數字顯示 (七)在安裝結構上,采取了減振措施,保證了在運轉時噪音很低,保證涂覆表面均勻,保證通過調節轉速調節涂覆厚度. (八)勻膠機配真空泵使用. 性能指標:
高性能馬達驅動旋轉控制Mz型高精度旋涂用馬達轉速范圍:50~12000RPM (注 50RPM是最小穩定轉速)最大加速度:13000RPM/S;轉速誤差:<±0.5RPM @8000RPM NIST標準認證;勻膠均勻性:<1% @6 inch Wafer
電源電壓:220V/ 50Hz 電機功率:200W 適用:Φ10-Φ150mm硅片及其它材料等勻膠. 體積小,重量輕,操作簡便
客戶參考:香港理工大學,香港科技大學,香港城市大學,北京大學,清華大學復旦大學,東南大學,北京工業大學,江蘇工業大學,上海大學,北京科技大學,電子科技大學 ,中國地質大學,廈門大學,天津大學,貴州大學,西南師范大學,香港電訊學院,陜西師范大學,北京石油化工學院,重慶西南大學,中國地質大學,北京理工大學,哈爾濱工業大學,哈爾濱工程大學,武漢大學,西安交通大學,四川大學,四川師范大學,同濟大學,天津大學,西南交通大學,南京大學,南京工業大學,華中科技大學,河南大學,鄭州大學等。中國科學院上海硅酸鹽研究所,華為集團、TCL集團等著名高校及半導體微電子行業.。主要市場 中國、香港、韓國 、新加坡、美國 等國家 產品用途: WS650型勻膠機適合半導體硅片,晶片,基片,導電玻璃等工藝,制版的表面涂覆. 請與邁可諾技術有限公司 中國營銷服務中心聯系
桌面式微波等離子體去膠機 立式微波等離子體去膠機
產品優勢:
去膠快速徹底
對樣片無損傷
操作簡單安全
設計緊湊美觀
產品性價比高
產品用途:
高劑量離子注入光刻膠的去除
濕法或干法刻蝕前后的去殘膠
MEMS中犧牲層的去除
去除化學殘余物
清除浮渣工藝
SU-8膠的去除:
MEMS工藝中經常用到SU8光刻膠,然而SU8非常穩定,其最致命的缺點就是去膠困難。為了解決SU-8光刻膠的去膠問題,我們向您推薦德國Alpha Plasma專業的SU-8微波等離子體去膠機,該設備采用氟基氣體的去膠工藝,利用氟基氣體與SU-8膠的化學反應,實現快速去除SU-8功能。同時設備中還集成了溫控系統,去膠過程中對襯底溫度的控制保證了高深寬比金屬結構的完整性,最終實現高質量MEMS器件的制備。SU-8去膠速率驗收指標為1μm/min,實驗中可達到幾個微米。因此這款專業的SU8去膠機是MEMS去膠工藝的理想選擇。